部件业务

碳化硅涂层

CVD SIC 是通过化学气相沉积技术制备的碳化硅。
KNJ 利用累积的 CVD SIC 技术，开发出从薄膜到数毫米厚的稳定 Bulk 蒸镀技术确保了稳定的生产工艺。

CVD-SIC 涂层产品采用先进工艺，可有效抑制原材料的逸气和灰尘发生, 在高温和真空环境中保持稳定性能，并提供高纯度和耐用性，适用于半导体及尖端产业工艺。通过提高耐蚀性和耐热性，延长设备寿命并提高工艺可靠性。

高纯度

优异的耐化学性

可耐酸

高温稳定性

抑制原料中的气体释放